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      高純鈦靶濺射鈦靶材的主要應用領域

      發布時間:2021-06-17 22:49:50 瀏覽次數 :

      濺射鈦靶材主要應用于電子及信息產業,如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等,亦可應用于玻璃鍍膜域,還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。其中靶材就是做芯片的重要材料,知名的就是外芯片——英偉達,直屬于行業老大,但是隨著中的實力日漸強度,我們的華為已經自主的研發生產出與之抗衡的電子芯片,徹底打破了直采用外技術的這現象。

      鈦靶材

      像超大規模集成電路芯片制造域是濺射靶材高的應用,其對濺射靶材金屬純度的要求高,通常要求達到99.9995%(5N5)以上,平板顯示器、太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低,分別要求達到99.999%(5N)、99.995%(4N5)以上,達99.999(而般金屬也就99.8的純度)。

      目前,高純濺射鈦靶材主要應用于半導體芯片、液晶顯示器、太陽能電池等域,其中,半導體芯片占據了較大的市場份額,意味著今后幾乎所有的科技產品都要用到濺射靶材。

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