1、定義
TA1鈦平面靶是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA1(工業純鈦) 為原材料,通過塑性加工制成的平板狀濺射靶材。其純度通常為 99.5%(Fe≤0.20%、O≤0.25%、C≤0.10%),適用于磁控濺射工藝,主要用于工業防腐、裝飾鍍層及功能性薄膜的制備。其平板結構適配大面積均勻鍍膜需求,常見形態為矩形或圓形薄板。
2、性能特點
基礎性能:
純度:TA1鈦純度 99.5%,雜質以Fe、O為主,適合對薄膜性能要求適中的場景。
機械性能:抗拉強度≥345 MPa,延伸率≥20%,硬度HV 120-180。
鍍膜特性:
均勻性:靶面晶粒尺寸≤100 μm,膜厚均勻性±8%(需優化磁場設計)。
耐腐蝕性:在3.5% NaCl溶液中腐蝕速率≤0.01 mm/年,適合一般工業環境。
成本優勢:
原材料成本低(¥400-600/kg),適配中低功率濺射(≤10 W/cm2)。
3、材質與制造工藝
材質:
基材:TA1工業純鈦(GB/T 3620.1),未進行二次提純,保留原始雜質水平。
復合結構:部分靶材背部復合銅/鉬背板(導熱系數≥150 W/m·K)。
制造工藝:
原料熔煉:
真空自耗電弧熔煉(VAR):去除揮發性雜質(如Cl、S)。
塑性加工:
熱軋(900-1000°C)→冷軋→退火(消除內應力)。
精密加工:
線切割成型→表面粗拋光(Ra≤1.2 μm)→酸洗(HF:HNO ?=1:3)去除氧化層。
復合焊接:
鈦-銅背板采用 真空釬焊(溫度700-800°C,壓力20-30 MPa)。
4、執行標準
標準類型 | 具體標準 |
國內標準 | GB/T 3620.1(TA1工業純鈦)、GB/T 3621(鈦及鈦合金板材) |
行業規范 | SJ/T 11609-2016(濺射靶材通用技術條件)、JB/T 8554(工業涂層性能要求) |
國際參考 | ASTM B348(鈦及鈦合金板材)、ISO 1463(膜厚測量標準) |
5、應用領域
工業防腐涂層:
化工設備反應釜內壁的 純鈦鍍層(耐酸堿腐蝕,替代不銹鋼)。
海洋平臺管道的 CrTiN復合涂層(耐鹽霧≥500小時)。
裝飾鍍膜:
衛浴五金的 氮化鈦(TiN)仿金鍍層(顏色穩定性優于電鍍)。
家具配件的 TiC黑色涂層(防指紋、耐磨損)。
功能性薄膜:
包裝材料的 氧氣阻隔層(氧氣透過率≤10 cm3/m2·day)。
汽車燈具反射膜的 鈦基涂層(反射率≥80%)。
6、與其他鈦平面靶的異同對比
特性 | TA1鈦平面靶 | TA2鈦平面靶 | 高純鈦平面靶(4N級) | 鈦合金平面靶(Ti6Al4V) |
純度 | 99.5%(Fe≤0.20%) | 99.5%(Fe≤0.30%) | 99.99%(Fe≤0.005%) | 90% Ti + 6% Al + 4% V |
膜層均勻性 | ±8%(需優化磁場) | ±10%(邊緣效應顯著) | ±5%(高純度+精細晶粒) | ±12%(合金偏析影響) |
耐溫性 | ≤400°C(氧化前) | ≤350°C | ≤800°C | ≤300°C(Al易氧化) |
成本 | 低(¥400-600/kg) | 低(¥350-550/kg) | 高(¥2000-3500/kg) | 中高(¥800-1200/kg) |
典型應用 | 防腐/裝飾鍍層、一般工業鍍膜 | 基礎工業防護 | 半導體/光學鍍膜 | 輕型耐磨部件 |
7、選購方法與注意事項
選購方法
雜質檢測:
要求供應商提供 OES(原子發射光譜)報告,確認Fe≤0.20%、O≤0.25%。
若用于氮化鈦鍍層,需額外檢測C含量(≤0.10%)。
幾何精度驗證:
靶材厚度公差 ±0.2 mm,平面度≤0.1 mm/m(激光干涉儀檢測)。
供應商評估:
選擇具備穩定軋制與焊接技術的廠商,優先通過 ISO 9001 認證的企業。
注意事項
儲存與預處理:
儲存于干燥環境(濕度<50% RH),真空封裝避免氧化。
使用前用 丙酮+超聲波清洗 去除油污,禁止裸手接觸靶面。
工藝優化:
TiN涂層:氮氣占比 30-50%,基片溫度 150-250°C,濺射功率≤8 W/cm2。
純鈦鍍層:氬氣純度≥99.99%,濺射氣壓 0.5-0.8 Pa(減少氧摻雜)。
維護與報廢:
定期檢查靶材損耗(剩余厚度<**15%**時更換),避免鍍膜不均。
報廢靶材可回收熔煉為低端鈦材,但不可用于高純度場景。
TA1鈦平面靶憑借其低成本、易加工及適中的性能,成為工業防腐與裝飾鍍層的經濟型選擇。其純度雖不及高純鈦靶,但通過工藝優化(如磁場設計、濺射參數調整)可滿足一般工業需求。選購時需重點關注雜質含量與幾何精度,應用中需控制氧污染并定期維護。對于精密半導體或光學鍍膜,建議選用高純鈦靶;而在防腐、裝飾及包裝阻隔等場景,TA1鈦平面靶能實現性價比最優。