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      工業防腐涂層用鈦靶管

      材質:TA1(Grade1)

      執行標準: GB/T 3620.1、GB/T 3621、SJ/T 11609-2016、JB/T 8554、ASTM B338、ISO 5832-2

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      發布日期: 2022-09-20 05:28:23

      全國熱線: 0917-3376170

      詳細描述 / Detailed description

      1、定義

      TA1鈦靶管是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA1(工業純鈦) 為原材料,通過塑性加工成型的空心圓柱形濺射靶材。TA1鈦的純度為 99.5% 左右(Fe≤0.20%、O≤0.25%、C≤0.10%),適用于中低功率磁控濺射工藝,主要用于工業防腐、裝飾鍍層及中端功能性薄膜的制備。

      2、性能特點

      基礎性能:

      純度:TA1鈦純度 99.5%,雜質以Fe、O為主,適合對薄膜性能要求不苛刻的場景。

      機械性能:抗拉強度≥345 MPa,延伸率≥20%,硬度HV 120-180。

      結構優勢:

      管狀設計:旋轉濺射利用率達 60-70%,降低材料損耗。

      耐腐蝕性:在3.5% NaCl溶液中年腐蝕速率≤0.01 mm,適合一般工業環境。

      成本優勢:

      原材料成本低(¥400-600/kg),適合規模化生產需求。

      3、材質與制造工藝

      材質:

      基材:TA1工業純鈦(GB/T 3620.1),未經過二次提純,保留原始雜質水平。

      復合結構:部分靶管內壁復合鋁或銅背板(提升散熱效率)。

      制造工藝:

      管材成型:

      熱擠壓(900-1000°C)→冷軋→退火(消除加工應力)。

      焊接與加工:

      管端采用氬弧焊(TIG)密封,表面粗拋光(Ra≤1.2 μm)。

      清洗與封裝:

      堿洗+酸洗去除表面氧化物→干燥后真空封裝。

      4、執行標準

      標準類型具體標準
      國內標準GB/T 3620.1(TA1工業純鈦)、GB/T 3625(鈦及鈦合金管材)
      行業規范JB/T 8554(工業涂層技術條件)、SJ/T 11609-2016(濺射靶材通用規范)
      國際參考ASTM B338(鈦及鈦合金無縫管)、ISO 5832-2(醫用鈦材性能參考)

      5、應用領域

      工業防腐涂層:

      化工設備管道的 純鈦鍍層(耐酸堿腐蝕,替代不銹鋼)。

      海洋平臺螺栓的 CrTiN復合涂層(耐鹽霧≥500小時)。

      裝飾鍍膜:

      衛浴五金件的 氮化鈦(TiN)仿金鍍層(成本低于電鍍工藝)。

      家具配件的 TiC黑色涂層(防指紋、耐磨)。

      中端功能性薄膜:

      包裝材料的 阻隔層(氧氣透過率≤5 cm3/m2·day)。

      汽車燈具的 反射膜(反射率≥85%)。

      6、與其他鈦靶管的異同對比

      特性TA1鈦靶管TA1高純鈦靶管(3N級)TA2鈦靶管鈦合金靶管(Ti6Al4V)
      純度99.5%(Fe≤0.20%)99.9%(Fe≤0.05%)99.5%(Fe≤0.30%)90% Ti + 6% Al + 4% V
      成本低(¥400-600/kg)中(¥600-1000/kg)低(¥400-800/kg)中高(¥1000-1500/kg)
      耐溫性≤400°C(氧化前)≤600°C≤500°C≤350°C(Al易氧化)
      薄膜均勻性±8%(中低功率濺射)±5%(中高功率濺射)±10%(低功率濺射)±12%(合金偏析影響)
      適用場景防腐/裝飾鍍層、一般工業鍍膜中端工具涂層、光學鍍膜基礎工業防護輕型耐磨部件

      7、選購方法與注意事項

      選購方法

      雜質檢測:

      要求供應商提供 光譜分析報告(OES),確認Fe≤0.20%、O≤0.25%。

      若用于氮化鈦鍍層,需額外檢測N含量(≤0.05%)。

      幾何精度驗證:

      壁厚公差 ±0.2 mm,同心度≤0.1 mm(卡尺+激光掃描檢測)。

      供應商評估:

      選擇具備穩定軋制與焊接能力的廠商,優先考慮通過 ISO 9001 認證的企業。

      注意事項

      儲存與預處理:

      儲存環境濕度<50% RH,避免表面氧化生成TiO?(可用干燥劑密封)。

      使用前用 丙酮+超聲波清洗 去除油污,禁止用手直接接觸靶面。

      工藝優化:

      TiN涂層:氮氣占比 30-50%,基片溫度 100-250°C,功率≤8 W/cm2。

      純鈦鍍層:氬氣純度≥99.99%,濺射氣壓 0.5-0.8 Pa(減少氧污染)。

      維護與報廢:

      定期檢查靶管壁厚(剩余厚度<2 mm時需更換),避免濺射穿孔。

      報廢靶管可回收熔煉為低端鈦材,但不可重復用于高純度鍍膜。

      TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性,成為工業防腐與裝飾鍍層的經濟型選擇。相較于高純鈦靶管,其薄膜均勻性和耐溫性稍遜,但成本優勢顯著;與TA2鈦靶管相比,雜質控制更優,適合對鍍層質量要求稍高的場景。選購時需重點關注Fe、O雜質含量及幾何精度,應用中需控制濺射參數以避免膜層缺陷。對于高端半導體或精密光學領域,建議選用高純鈦靶管;而在一般工業防護、裝飾鍍層及包裝阻隔等場景,TA1鈦靶管可實現性價比最優。

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